Schwerpunkt-Hochleistungs-Antireflexschicht ARHS UV

    
  • Harte und kratzfeste Entspiegelungsschicht zur Verminderung der Reflexion und Erhöhung der Transmission für Hochleistungs-UV-Laser
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  • Garantierte Restreflexion an Schwerpunktwellenlänge λ0: < 0.2 % für Einfallswinkel 0° ≤ AOI ≤ 10° oder < 0.5 % für AOI = 45° (unpolarisiert)
  • Zerstörschwelle H ∞ > 1.8 J/cm2 für 8.5 ns-Laserpulse (s-on-1) bei 266 nm und 100 Hz
  • Design anpassbar im Spektralbereich von 180 nm ≤ λ ≤ 400 nm und für größere Einfallswinkel
  • Substrate: Quarzglas, CaF2
    
  • Bitte geben Sie bei der Bestellung die gewünschte Zentralwellenlänge λ0 an.
 
Schwerpunkt-Hochleistungs-Antireflexschicht ARHS UV

 Beispiel: ARHS UV für 193 nm (AOI = 0°) und 193 nm (AOI = 45°, unpolarisiert)
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